设计与管理无缝协同，从源头保障数据一致与研发高效
企业研发普遍存在多工具数据孤岛、图纸版本混乱、BOM 人工整理易错、变更不同步、跨部门协同低效等痛点，导致返工多、周期长、成本高。
NextPLM 多学科设计集成深度打通 MCAD 与 ECAD 全场景工具，实现设计文件、数模、图纸、结构、属性与 EBOM 双向实时同步，支持在线检入检出、版本管控、合规自检、变更闭环，无需切换系统即可完成全流程设计管理，从源头保证数据准确可信，大幅提升设计效率、降低错误率，加速产品研发落地。
MCAD集成
兼容主流二维 / 三维设计工具，原生级无缝对接，实现数模、图纸、EBOM 双向同步，版本可控、变更可溯。
ECAD集成
深度适配电子设计工具，原理图、PCB、元器件库一体化管理，自动生成 EBOM，支持电子设计全流程协同。
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20年行业深耕
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深耕数字化领域，致力成为企业最信赖的合作伙伴，助力构建可持续的产品创新体系与高效协同管理模式。
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以 NextPLM 为中枢，构建数字化闭环
使用主流CAD二次开发与数字孪生技术，实现二三维CAD设计自动化，贯通研发、工艺、制造、售后全业务流程，全方位赋能企业数字化转型。
